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Vik's · 2026.08.24 週一 · Substack

Hot Chips 2026: Tuning into Memory Vibes

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Samsung 主導客製化邏輯底層晶片(Custom Base Die)三階段藍圖,先進邏輯製程成 HBM5 關鍵優勢

  • Hot Chips 2026 研討會中三大記憶體原廠展現不同技術路線,$MU 簡報偏向基礎概念且缺乏 16-hi 堆疊、混合鍵合與 Custom Base Die 藍圖,並在 HBM4 底層晶片沿用 DRAM 製程;相較之下三星善用自家 4nm 邏輯製程與 1c 記憶體製程,展示出明確的技術競爭優勢
$005930.KS 中期

憑藉自家晶圓代工資源,將 4nm 邏輯製程導入 HBM Base Die,相較沿用 DRAM 製程的 $MU 具備顯著功耗優勢。其三階段藍圖包含利用邏輯製程縮小 D2D PHY 面積並改進能效、將記憶體控制器從 XPU 卸載至 Base Die、以 SRAM 備份缺陷 DRAM 晶胞,並預計於 HBM5 導入 3D 垂直堆疊。具備自家先進邏輯製程產能使其在客製化 Base Die 趨勢下佔據核心競爭優勢

$MU 中期

Hot Chips 簡報缺乏對 16-hi/20-hi 高堆疊、混合鍵合與 Custom Base Die 的前瞻藍圖,且 HBM4 Base Die 仍採用 DRAM 製程而落後 $005930.KS 的 4nm 邏輯製程。此外在散熱設計上未如對手開發專屬冷卻模組,僅稱靠電路設計改進。在先進邏輯底層晶片與高階散熱解決方案的規劃落後使未來世代競爭力面臨考驗

記憶體 中期

HBM5 規格將往 60GB 容量與 6 TB/s 頻寬演進,每針腳速率預計達到 23.5 Gbps,高度仰賴先進邏輯製程 Base Die 支撐高頻寬與低功耗。先進邏輯製程底層晶片已與堆疊層數解耦,成為提升記憶體頻寬與降低晶片面積的關鍵技術

先進封裝 中期

採用邏輯製程的 Custom Base Die 能顯著縮減 D2D PHY 實體面積,進而釋放 XPU 計算面積並於 Base Die 整合 SRAM 與 RAS 監測單元。底層晶片邏輯化大幅改善晶粒間連線效率與運算單元佈局空間

HBM 封裝散熱與產業結構:MR-MUF 於混合鍵合時代優勢平平化,高昂晶圓成本驅動降規趨勢

  • HBM 製造消耗之 DRAM 晶圓為標準 DRAM 的 3 至 4 倍,使記憶體成本佔據整櫃伺服器逾半費用,產業正傳出將 HBM 堆疊從 12-hi 下修至 8-hi 甚至 4-hi 的降規(De-specing)趨勢;此外部分客戶亦將 $000660.KS 記憶體搭配 $INTC 的 EMIB 先進封裝使用
$000660.KS 中期

在 16-hi 堆疊中憑藉 MR-MUF 封裝取得優於 TCB 的熱阻與厚度表現,並配備 Integrated Cooling Engine (ICE) 專屬散熱技術。然而隨著未來進入混合鍵合(Hybrid Bonding)時代,MR-MUF 的獨家工藝優勢將不復存在。混合鍵合技術普及後各家封裝熱阻將回到同一起跑線,技術勝負將轉向執行力對決

記憶體 中期

由於每位元消耗晶圓量巨大致成本過高,雲端與晶片業者正轉向減少對高層數 HBM 的依賴並下修規格需求。高昂晶圓成本抑制 HBM 堆疊層數無限制擴張,規格下修趨勢促使供應鏈重新審視經濟效益

先進封裝 中期

SK 海力士 MR-MUF 與三星 HPB 均展示專屬散熱模組以因應高速傳輸熱密度,對比美光僅靠電路改善顯得較不具優勢;此外 $INTC EMIB 封裝亦已被部分客戶用於整合海力士 HBM散熱架構與微凸塊至無凸塊混合鍵合演進成為先進封裝競爭的核心重點